装置 ASETS社装置
シンガポール、ASETS社(Advanced Semiconductor Equipment Technology Singapore Pte.Ltd)製の半導体製造装置を取り扱っております。
対象装置）プラズマエッチャー、MOCVD、HTCVD、LPCVD、測定装置
＊お客様へのデモ環境、R&D、ラボ施設が充実しております。(www.asets.com.sg)
ICP ETCH
Primo iDEA
エッチャー＆アッシャーの統合Dual Station
D-RIEまたは、AD-RIEプロセスモジュールと、DsAチャンバー(Downstream Asher)の統合型
Primo Twinstar
3Dual Stationチャンバー、高アスペクト比の、優れた制御性
Primo TSV
高密度プラズマTSV、高い生産性、Deepシリコンエッチャープロセスに、柔軟に対応
CIS, MEMS, 2.5D, 3D IC向け
CCP ETCH
Primo SSC AD-RIE
16nmチップへの生産ライン導入実績
Primo Primo HD-RIE
高アスペクト比(HAR)、3D NAND, DRAMメモリ向け
Primo D-RIE
45/28/20/15/10nm 又は、それらのテクノロジーノード以下 向けのプロセスに採用
検査、測定 Particleラボ社製CVS
微粒子可視化の常識を変える
微粒子の可視化には、目に見えない異物を捉えるために「ミー散乱」の検出が不可欠です。高精度な可視化を実現するためには、光源とカメラを対向気味に設置し、散乱光の強度を最大化する設置が理想とされます。しかし、従来のシステムでは、光源やカメラのサイズが障壁となり、生産装置内部の限られたスペースに、理想的な配置での設置が困難でした。本製品は、世界最小、最軽量を実現することで、従来、不可能だった極小空間への設置を可能にし、最高レベルの可視化性能を提供します。理想的な配置に依って、散乱光を効率よく捉え、製造装置内部の、微粒子発生源の特定に特化した運用が行えます。
製造現場での、微粒子対策に革新をもたらす本システムを、是非、ご体感ください。
- 光源は運用が容易なレーザークラス１
- ≧100ナノ パーティクルの可視化に対応
- 照射部とカメラは、最小、最軽量を実現しただけでなく、ファンレス構造で発塵リスクや気流乱れが無く、計測が可能
- 吸盤やマグネットベースにより、生産装置の複雑で狭い構造でも、設置運用が手軽に行えます。
(https://particlelabs.tech/)
CVS(Contamination Vizualization System)
Wafer
半導体製造プロセスにおいて、装置の安定性、歩留まり維持には欠かすことができない、Dummy Wafer製品を取り扱っております。多様なスペック条件に応えた製品を安定的に供給致します。
消耗品 石英、Si、樹脂、Oリング等
半導体製造装置のチャンバーに装着される、これらの精密な消耗品を、幅広く取り扱っております。
